- 2005年7月11日讯—经过量产验证的热处理系统以及原子膜层沉积（ALD）的全球供应商Aviza Technology公司, 和半导体业界中单晶圆湿式处理技术的市场领先者及首要的技术创新者SEZ（瑟思）集团于今日联合宣布，将携手应对新一代IC制造过程中面临的关于去除ALD膜层的一系列重要挑战。协议约定，两个公司将利用双方的专家技术，共同开发应用于ALD高级膜层的沉积和去除等解决方案，合作重点将是晶圆的背面和倒角。
SEZ全球新兴技术部总监Leo Archer 博士评论说：“随着半导体器件的日益复
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