新闻中心

EEPW首页 > EDA/PCB > Intel突破 65nm 70MbitSRAM制造成功

Intel突破 65nm 70MbitSRAM制造成功

——
作者: 时间:2007-06-29 来源: 收藏
日前,Intel宣布,他们采用最新的65纳米工艺制造SRAM(静态)取得了突破,他们成功的用65nm的工艺制造出了70Mbit的大容量静态。 

  静态(SRAM)主要用作高速的存储设备,例如处理器内部的高速缓存等存储设备。

  05年11月,Intel首次宣布65nm制造工艺的时候就曾宣布成功制造了4Mbit的SRAM,现在能够生产出70Mbit的SRAM将有助于将来处理器的制造。  
 


关键词: 存储器

评论


相关推荐

技术专区

关闭