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背后供电技术 文章 进入背后供电技术技术社区

性能提高44%,三星计划2纳米制程加入背后供电技术

  • 在与台积电的竞争之路上,三星可谓频繁出招。除了3纳米导入全新GAAFET全环绕栅极电晶体架构,已成功量产,照三星半导体蓝图分析,2025年大规模量产2纳米,更先进1.4纳米预定2027年量产。韩国媒体The Elec报导,三星计划使用背面供电网络(BSPDN)技术用于2纳米芯片。研究员Park Byung-jae在日前举行的三星技术论坛SEDEX 2022介绍BSPDN细节。从过去高K金属栅极技术到FinFET,接着迈向MBCFET,再到BSPDN,FinFET仍是半导体制程最主流技术,之前称为3
  • 关键字: 三星  2纳米  背后供电技术  
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背后供电技术介绍

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