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NI PXI矢量网络分析仪助半导体移动设备制造商降低测试成本

—— NI PXI矢量网络分析仪帮助半导体和移动设备制造商降低测试成本
作者:时间:2012-12-04来源:电子产品世界

  美国国家仪器公司(National Instruments, 简称 )近日发布了 VNA,它经进一步优化,可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求,而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构,频率范围为300 kHz至8.5 GHz,拥有独立调整的源代码和源接入循环,可适用于众多不同的测量应用。  

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/139694.htm

 

  “NI在射频和微波仪器上持续大力投入,将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示, “NI 矢量网络功能丰富,可显着降低网络测量成本,尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”

  产品特征

  • 双端口,3槽PXI Express矢量网络,频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。
  • 功率范围较宽,为-30dBm到+15 dBm,调节步长为0.01dB,用于测量有源设备的压缩和S-参数。
  • 带有源接入循环的双源架构,可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。
  • 频偏功能使用独立调整的源代码,实现对频率转换器件和热S-参数的测量。
  • 通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口,可简化编程并加快测试开发速度,同时保证射频测量质量。


关键词: NI 分析仪 PXIe-5632

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