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等离子沉积系统 文章 进入等离子沉积系统技术社区

东方集成在上海安装了等离子体沉积系统

  • 2012年3月，东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，用于在基片上沉积 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。
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等离子沉积系统介绍

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