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中国科研团队在石版制造技术方面取得了新进展

• 焦平面阵列（FPA）因其高度的积分、鲁棒性和强大的动态适应性，在偏振成像领域引起了广泛关注。制造FPA的关键在于制造阵列各向异性亚波长光栅。传统技术如纳米印刻和基于掩膜的光刻依赖高精度模板，限制了灵活性，而电子束光刻等直接写入方法则难以满足大面积制造的效率要求。最近，清华深圳国际研究生院李星辉副教授领导的研究团队在焦平面超像素阵列的光刻制造方面取得了新进展，为中红外偏振成像系统的关键部件制造提供了新颖解决方案。针对中红外偏振成像应用，团队提出了单周期接触-干涉混合光刻技术。该方法使用不含细光栅条纹结构的窗
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