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2008年上海NEPCON期待得可更多
团队正计划在今年4月8日至11日光大会展中心举办的中国上展示大量的尖端印刷平台和生产力工具,以独有风格庆祝其作为批量印刷引领者的40 周年。到访者可在得可1B30 展位现场了解其专家技术。 Nepcon上海展示的得可技术将反映公司就其期待更多的理念的承诺,特别推出一直以来提供更多价值、生产力和创新的技术突破。其中之一便是得可展台上全新的Photon Vi平台,可提供前所未有的大范围精密印刷。易于为重至16.5磅(7.5公斤)和大至25.4” x 24”(610毫米 x 6
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