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OLED关键工艺介绍

  • 氧化铟锡(ITO)基板前处理(1)ITO表面平整度ITO目前已广泛应用在商业化的显示器面板制造，其具有高透射率、低...
  • 关键字： OLED  关键工艺  

OLED关键工艺

  • 氧化铟锡(ITO)基板前处理(1)ITO表面平整度ITO目前已广泛应用在商业化的显示器面板制造，其具有高透射率、低电阻率及高功函数等优点。一般而言，利用射频溅镀法(RF sputtering)所制造的ITO，易受工艺控制因素不良而导
  • 关键字： OLED  关键工艺    
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关键工艺介绍

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