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2019年中国光刻机行业市场现状、行业格局及发展趋势分析

•   光刻技术指利用光学-化学反应原理,将电路图转移到晶圆表面的工艺技术,光刻机是光刻工序中的一种投影曝光系统。其包括光源、光学镜片、对准系统等。在制造过程中,通过投射光束,穿过掩膜板和光学镜片照射涂敷在基底上的光敏性光刻胶,经过显影后可以将电路图最终转移到硅晶圆上。光刻工艺步骤繁多数据来源:公开资料整理一、市场现状及行业格局    光刻机分为无掩模光刻机和有掩模光刻机。(1)无掩模光刻机可分为电子束直写光刻机、离子束直写光刻机、激光直写光刻机。电子束直写光刻机可以用于高分辨率
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