- Silicon Integration Initiative(Si2)和SEMI于今日宣布一项合作协议,旨在应对日益复杂的集成电路可制造性设计以及不断增长的成本问题。 半导体的设计制造日趋复杂,因此亟须设计商、制造商和技术供应商通力合作,以共同应对这一难题。SEMI成员已充分意识到这一需要,并对可制造性设计(DFM)这一领域颇感兴趣。而Si2成员同样在寻求更加深入地了解制造流程,以期开发出全新的工具和技术用于创造更为稳健的设计方案,并在制造流程早期实现更高收益。SEMI总裁兼首席执行官麦雅斯说
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- SEMI和IEEE签署了一项关于合作项目的谅解备忘录,该项目旨在创建纳米技术和微电子机械系统(MEMS)标准。此协议的签订标志着协议双方的首度标准协调合作。根据该理解备忘录,SEMI和IEEE将确定有关联络事宜,说明定期的信息交流计划并安排定期召开联合会议。备忘录中还提供各自委员会会议的最新资料并发布关于纳米技术和微电子机械系统标准信息。 IEEE标准协会正在积极推进其纳米技术标准,并预计在2005年出台碳纳米管的测量标准。同样,SEMI的MEMS动议也显示了对这一标准的关注。“该备忘录将对纳米技术、ME
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SEMI
- 两大电子产品标准组织SEMI与IEEE日前(6/7) 签署了一份备忘录(Memorandum of Understanding:MOU),未来将针对奈米技术及微电机系统(MEMS)领域标准进行合作。依此备忘录,两团体分别任命了联系人,并且将就上述两个领域定期交流资讯,并将定期举行联席会议
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