- 为进一步加强和中国教育以及自主研发区域的联系，半导体制造商STMicroelectronics和CMP(Circuits Multi Projects)宣布，今天他们将授权中国的大学，可以使用意法半导体的45纳米互补金属氧化物半导体(CMOS)制造工艺进行原型设计，以作学术教学和科学研究之用。
公司方面称，这种模式在欧洲和北美的大学已经取得了巨大的成功。现在也已经有超过100所大学拿到了65-nm CMOS的基本制程和设计方案。
而对于中国的研究组织和机构来说，这种模式结构可以说是为其提供
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ST CMP 半导体 CMOS
- 意法半导体和CMP (Circuits Multi Projects ®) 宣布，通过CMP提供的硅中介服务，大学、科研院所和公司可以使用意法半导体的45纳米互补金属氧化物半导体(CMOS)制造工艺进行原型设计。这项消息在巴黎举行的CMP用户年会上发布，会中集结了采用CMP多项目晶片服务的大学院校、科研机构或私营企业的代表。通过CMP的服务，他们可以委托芯片厂商小批量制造几十个到几千个的先进集成电路。
45纳米CMOS工艺的推出，是延续ST与CMP授权大学使用上一代65纳米和90纳米CM
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意法半导体 CMP CMOS 200802
- 介绍了基于I2C串行总线接口的数字智能温度传感器TMP101的性能、结构和工作原理,以及与PICl8F458单片机的实际应用。
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TMPl 12C 01 总线接口
- 本设计采用STPM01作为核心计量芯片，P89LPC9401作为系统控制器，整个系统功耗低，性能稳定。
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STPM 01 防窃电 电能表设计
- 罗门哈斯电子材料CMP科技日前为其位于新竹科技园区和竹南科技园区的“亚太制造和技术中心”举行破土动工仪式。该中心预期在2007年第一季度之前投入商业运转。 罗门哈斯电子材料大多数业务都在亚洲，台湾是其下一代IC1000 TM研磨垫的生产基地和高级应用实验室、销售以及客户支持中心。该中心占地6英亩，耗资5000万美元用于建设4500平米生产下一代CMP产品的工厂和2000平米的技术中心以及3000平米的办公场所。应用实验室包括用于研磨垫和浆料分析的标准设备和一个300至500平方米用于CMP研磨、
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CMP 科技亚太 罗门哈斯
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