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Toppan宣布28nm光刻掩膜准备就绪 通过IBM认证

  • 　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，开发出新的光刻掩膜制造技术，可用于制造32nm和28nm掩膜。 　　该公司称，这些掩膜在日本Asaka工厂制成，通过了IBM的认证。 　　Toppan从45nm节点就开始和IBM合作，去年双方签署了32nm掩膜技术的最后阶段的合作协议，以及22nm掩膜的合作开发协议。
  • 关键字： Toppan  纳米  光刻掩膜  
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