- KLA-Tencor 公司日前推出了 PlasmaVolt X2，可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量，且空间分辨率得到改善，PlasmaVolt X2 对各种参数的变化极为敏感，例如无线电频率 (RF) 功率、气流、磁场及等离子室设计。这种等离子行为测量和特征化系统能改善生产环境中的等离子室配对、机台检验、系统故障排除及工艺开发。
KLA-Tencor 的 SensArray 分部高级副总裁兼总经理 Larry Wagner 表示：&ldquo
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KLA-TENCOR PLASMAVOLT
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