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应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统

  •   近日,应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM(扫描电子显微镜)SEMVision™ G4系统,它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVision G4系统的关键在于全新的SEM聚焦离子枪技术和增强的多视角SEM成像系统(MPSI),他们具有卓越的2纳米物理精度,能提供无与伦比的成像质量,其每秒一个缺陷的检测速度也设定了新的基准。   应用材料公司工艺诊断和控制事业部SEM部门总经理Ronen Benzion表示:“45纳米
  • 关键字: 测试  测量  应用材料  EMVision  G4  SEM  测量工具  
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