- 据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL).该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻.
电子束曝光技术可直接刻画精细的图案,是实验室制作微小纳米电子元件的最佳选择.这款耗资数百万美元的曝光系统将在澳大利亚亮相,并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的纳米图形.该系统将被放置在即将完工的墨尔本纳米制造中心(MCN)内,并将于明年3月正式揭幕.
MCN的临时负责人阿
- 关键字：
纳米 EBL 蚀刻.
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