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20nm闪存 文章 进入20nm闪存技术社区

英特尔、美光联合开发出高密度低成本20nm闪存

  •   英特尔和美光科技( Micron Technology)日前宣布,已开发出128Gb的NAND闪存,新元件采用了针对闪存改良的20nm工艺制程,将high-k金属栅极(HKMG)晶体管包含在内。   两家公司声称,他们开发出了全球首款独立型128Gb存储器,并表示将立即使用相同的制程量产20nm的64Gb NAND闪存元件,而新的128Gb元件预计2012上半年量产。   英特尔与美光并未描述20nm制程细节,而其他存储器制造目前的制程技术也进展到20~29nm之间。过去曾有报导指出英特尔与美光采
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20nm闪存介绍

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