- 2023年5月27日—西安，伴随着2023年西安市科技活动周的举办，由陕西妇女儿童发展基金会、应用材料中国公司联合发起的“与丝路同行·应用材料公司各美讲堂”（以下简称“各美讲堂”）2023年度系列人文艺术公益讲座于今日在西安高新钱学森第二小学迎来本年度启幕仪式暨首场大型公众讲座。现场，西北大学教授、博士生导师、西北大学中亚考古队队长，丝绸之路考古合作研究中心首席科学家王建新老师担任开幕场主讲人，并以《追寻张骞的足迹——丝绸之路与东西方文明》为主题拉开了2023年“各美讲堂”的序幕。同时，在西安市科学技术协
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应用材料公司 各美讲堂 不东学堂
- • 收入66.3亿美元，同比增长6%• GAAP营业利润率28.8%，非GAAP营业利润率29.1%，同比均下降1.5个百分点• GAAP每股盈余1.86美元，非GAAP每股盈余2美元，同比分别增长7%和8%• 实现经营活动现金流22.9亿美元 2023年5月18日，加利福尼亚州圣克拉拉——应用材料公司（纳斯达克：AMAT）公布了其截止于2023年4月30日的2023财年第二季度财务报告。
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应用材料公司 2023财年第二季度财务报告
- 半导体制造业的迫切需求，对于那些有能力进一步提高生产力和效率的晶圆厂来说，意味着巨大的机会。然而，现有的工具和方法限制了生产效率或KPI的提升水平。SmartFactory AI可以助您一臂之力。借助该系统，晶圆厂可以通过端到端AI/ML模型的开发和部署，形成独特的竞争优势，进而使用新一代先进智能算法应对来自生产力和供应链的挑战。SmartFactory AI可解决影响晶圆厂生产效率和良率的两项关键挑战：首先是与预测模型相关的挑战，比如批次生产周期、动态瓶颈和良率预测；其次是寻找最佳逻辑或参数值，以更优的
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SmartFactory AI 应用材料公司
- ● 收入67.4亿美元，同比增长7%● GAAP营业利润率29.2%，非GAAP营业利润率29.5%，同比分别下降2.3%和2.2%● GAAP每股盈余2.02美元，非GAAP每股盈余2.03美元，同比分别增长1%和7%● 实现经营活动现金流22.7亿美元应用材料公司近日公布了其截止于2023年1月29日的2023财年第一季度财务报告。2023财年第一季度业绩应用材料公司实现营收67.4亿美元。基于GAAP（一
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应用材料公司 财务报告
- 作者 王宇 应用材料公司日前宣布，面向晶圆级封装(WLP)产业推出Applied Nokota™电化学沉积(Electrochemical Deposition, ECD)系统，凭借优秀的电化学沉积性能、可靠性、晶圆保护能力、可扩展性，以及生产力，提供先进封装技术。在该系统的助力下，芯片制造商、外包装配和测试(OSAT)企业将可通过低成本、高效率的方式使用不同的晶圆级封装工艺，包括凸块/柱状、扇出、硅通孔(TSV)等等，满足日益增多的移动和高性能计算应用需求。 相较于传统封装方案，全新晶圆级封装系统可
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应用材料公司 WLP Nokota系统 201704
- 2012年3月20日，上海——今天，应用材料公司宣布推出全新等离子体增强化学气相沉积（PECVD）薄膜技术，用于制造适用于...
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应用材料公司
- 应用材料公司发表最新的触控式显示器制造系统AppliedAKTR-AristoTwin，可于单一系统上执行两条独立处理轨...
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应用材料公司 触控式面板 制造系统
- 近日，领先的垂直一体化太阳能光伏组件制造企业天合光能有限公司在江苏常州授予应用材料公司2010年卓越贡献—全球采购奖，表彰其为天合光能多个产能扩充项目提供了及时的交付、卓越的产品和优良的服务。这是应用材料公司最近两个月以来第三次以卓越的表现获得中国主要光伏企业的褒奖。
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应用材料公司 光伏组件
- 近日，应用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等离子体强化化学气相沉积) 系统，它能实现在45纳米及更小技术节点的器件上生产速度更快的晶体管所需要达到的应力水平，是应力工程技术(Strained engineering technology) 的一个巨大进步。该系统结合应用材料的Nanocure™ UV（紫外线）处理技术以及改进型氮化物沉积反应腔，把薄膜张力提高了超过30%，达到了业界领先的1.7GPa等级，并可扩展至超过2.
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等离子体强化化学气相沉积系统 工业控制 应用材料公司 等离子显示 PDP 工业控制
- 近日，应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蚀设备，它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要的纳米制造技术系统。Tetra III通过控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以内，同时把临界尺寸损失减小到10nm以下，使客户可以在最重要的器件层交替使用相移掩膜和强有力的光学临近修正技术。该系统为基于铬、石英、氮氧硅钼等多种新材料的下一代光刻技术应用提供无差错、高产能的刻蚀工艺。
应用材料公司资深副总裁，刻蚀、清洁、前道
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45纳米 光掩膜刻蚀 应用材料公司
- 近日，应用材料公司宣布为200mm CMP（化学机械研磨）系统推出创新的Applied DuraPad CMP（化学机械研磨）抛光垫技术 。DuraPad的使用寿命比现有的研磨垫至少延长了30%，有效地增加了机台的有效使用时间，替客户节约了可观的拥有成本。在DuraPad制造过程中采用先进的six-sigma 制造技术保证了研磨垫不同批次之间性能的一致性，从而确保获得良好的CMP研磨效果。 应用材料公司全球服务部总经理兼资深副总裁Manfred
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工业控制 化学机械 研磨抛光垫技术 应用材料公司 工业控制
- 应用材料公司推出业界最高产量CVD工艺主机－ Applied Producer GT 近日，应用材料公司宣布推出业界最快速最经济的CVD（化学气相沉积）主机 － Applied Producer® GT™，把硅片生产能力提升到了一个新的水平。该产品每小时可处理150片硅片，产量达到其他竞争系统的两倍，从而降低了30%的拥有成本，并将单位面积每小时硅片处理数量提高了50%。Producer GT全面支持所有应
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CVD 单片机 工业控制 工艺主机 嵌入式系统 应用材料公司 工业控制
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