读书会|在工作之余来聊方法,一起来提升自己
我有电动螺丝刀,你有开发经验吗?来换呀!
不容错过的GNSS新品>>
更新的安森美储能、电动汽车技术看这里>>
我要投稿
|
手机版
技
术
嵌入式
模拟
电源
LED
智能
元件/连接器
EDA/PCB
测试测量
RF/微波
物联网
应
用
汽车
工控
消费
医疗
光电
手机/便携
安防
通信
网络
互
动
论坛
博客
功
能
下载
在线研讨会
EETV
电路图
首页
资讯
商机
下载
拆解
高校
招聘
杂志
会展
EETV
百科
问答
电路图
工程师手册
Datasheet
100例
活动中心
E周刊阅读
样片申请
EEPW首页
>>
主题列表
>> 低漏电
低漏电
文章
进入低漏电技术社区
中芯国际和Virage Logic拓展伙伴关系至40纳米低漏电工艺
备受半导体产业信赖的IP供应商Virage Logic公司 和中国最先进的半导体制造商中芯国际集成电路有限公司(中芯国际,纽约证券交易所交易代码:SMI,香港联交所交易代码:0981.HK)日前宣布其长期合作伙伴关系扩展到40纳米(nanometer)的低漏电(low-leakage)工艺技术。Virage Logic 公司和中芯国际从最初的130纳米工艺合作起便为双方共同的客户提供具高度差异的 IP,涵盖的工艺广泛还包含90纳米以及65纳米。根据协议条款,系统级芯片(SoC)设计人员将能够使用 Vi
关键字:
中芯国际
40纳米
低漏电
中芯国际携手Synopsys拓展65纳米低漏电工艺技术
Synopsys 5月19日宣布开始提供用于中芯国际65纳米低漏电工艺技术的新思科技经硅验证的和获得USB标志认证的DesignWare® USB 2.0 nanoPHY知识产权(IP)。在65nm技术日渐成为先进IC产品市场主导的今天,中芯的这一举措有助于其进一步拓展65nm产品线,快速量产65纳米低漏电工艺,加快客户的产品上市时间。 DesignWare USB 2.0 nanoPHY IP专为各种高市场容量移动和消费电子应用而设计的,这些应用的关键要求包括要实现面积最小、低动态和泄
关键字:
中芯国际
65纳米
低漏电
共2条 1/1
1
低漏电介绍
您好,目前还没有人创建词条低漏电!
欢迎您创建该词条,阐述对低漏电的理解,并与今后在此搜索低漏电的朋友们分享。
创建词条
热门主题
树莓派
linux
关于我们
-
广告服务
-
企业会员服务
-
网站地图
-
联系我们
-
征稿
-
友情链接
-
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案:1101082052 京公网安备11010802012473