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刻蚀设备 文章

美国再次放宽对华高技术产品出口 65nm以下刻蚀设备不再受限

  •   在SEMI及会员公司的共同努力下,经过9个月的等待,美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件,原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nma。
  • 关键字: 刻蚀设备  65nm  
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刻蚀设备介绍

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