65nm后，DFM的作用将逐步体现

　　IC芯片产业在进入纳米时代后，生产工艺复杂度和物理极限等局限开始挑战被称为定律的“Moor’s Law”。同时，EDA技术的发展不但完全融入到电子产品的设计和定型过程中，并且开始涉足包括存档、生产、制造、测试等环节，帮助IC产业迎接工艺极限的挑战。

　　作为EDA行业的佼佼者，Mentor Graphics公司一年一度的“Mentor Graphics EDA Tech Forum 2007”备受关注。今年的技术论坛以 “洞悉您最复杂的设计挑战!”为主题在全球18个城市巡回开展。8月31日，Mentor Graphics的CEO Walden C. Rhines 先生携带着包括The Mathworks、Altera、Lattice, ARM 和Sun等合作伙伴来到北京。在论坛上，Mentor Graphics演示了System Design、Design for Manufacture、Functional Verification 、Electronic System Level等解决方案。

　　依据应用领域和设计对象的区别，EDA技术可以细分为系统级设计、芯片设计、板级设计以及整机系统设计技术等多种流程和方法学。Walden颇为自豪的是Mentor Graphics的技术和产品已经覆盖了广泛的EDA领域，但是Walden也表示没有一家EDA公司能够做到全能，成功的EDA公司知道如何取舍。

　　这其中，DFM(Design for Manufacture)是Mentor Graphics的关注重点。DFM因为是在IC设计阶段便将对生产工艺可能造成的影响考虑在内，而受到欢迎，并且在去年成为EDA市场增长的主要推动力。Walden表示Mentor Graphics占据了DFM市场20%的份额，并且在六月成功收购Sierra Design Automation后，可以将Sierra的工具套件与Mentor Graphics的DRC和DFM工具结合起来。此外，为了提供Foundry与IC设计公司有效的沟通接口， Mentor Graphics已经开始展开与Foundry和IDM厂商的密切合作。Walden介绍说对于Foundry一方面需要考虑如何帮助客户提高产品的良率，另一面还需要谨防工艺技术泄密，Mentor Graphics针对这些提供编码方式让Foundry更加放心。

　　在半导体生产工艺进入65nm后，DFM的关键影响力将逐步体现，因为OPC等分辨率增强技术面临物理极限，市场对PRV(Post-RET Verification)与DFP(DFM in layout-to-silicon-pattern transfer)等DFM方案的需求开始加强。与此同时，市场的竞争也将加剧，有分析显示2007年加入DFM市场的公司增幅高达75%，但同时也会有相当的竞争者被收购或者被迫退出市场。(山水)

Walden：没有一家EDA公司能够提供所有领域的工具