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基于ARM的扩散/氧化控制系统的设计

作者:时间:2010-11-15来源:网络收藏

  在本系统中使用晶闸管控制的电阻丝给扩散/氧化炉加温,为了防止市电对系统的影响,必须使用光电隔离器隔离本系统与市电的连接。


图2 ILC7135 转换原理图

  2.3 气路系统和推拉舟系统的硬件设计

  在扩散/氧化工艺中,根据工艺的不同需要通入4种不同种类和质量的气体。所以在气路控制系统中,需要4路开关量控制4种不同气体的通断,以及4路模拟量控制气体质量流量计。质量流量计能够输出4 mA~20 mA或0~5 V的气体质量信号,在控制精度要求不高的系统中,可以不理会质量流量计输出的气体质量信号,为了保证控制精度,可以采集气体质量信号。

  在4路开关量控制中,可以使用继电器控制通断。

  在4路模拟量控制气体质量流量计中,需要4路D/A转换。根据控制精度的要求,选用12位的D/A芯片DAC1230,因为控制信号为电压信号,所以需要把电流信号转换成电压信号。图3即为气路控制系统D/A转换原理图。


图3 气路控制系统D/A转换原理图

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