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Inversion Semiconductor旨在实现更明亮、更快速的光刻技术

  • Inversion Semiconductor Inc.(加利福尼亚州旧金山)是一家 2024 年的初创公司,计划利用粒子加速为下一代光刻技术开发更亮、更可调的光源。该公司表示,与现有系统相比,它将能够以高达 15 倍的速度制造芯片,并且具有更精细的功能。Inversion 加入 Lace Lithography 是一家初创公司,希望取代或至少被视为成熟的光刻市场领导者 ASML Holding NV 的替代品。当然,这两家初创公司都看到了使用 13.5nm 波长的极紫外光进行光刻胶闪光曝光的进一步开发的
  • 关键字: Inversion Semiconductor  光刻技术  
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