- 上海 —— 近日,全球领先的半导体制造设备及服务供应商泛林集团宣布其自维护设备创下半导体行业工艺流程生产率的新标杆。通过与领先半导体制造商合作,泛林集团成功实现了刻蚀工艺平台全年无间断运行。在当今半导体工艺环境中,平均清洗间隔时间是限制刻蚀系统生产率提高的主要因素。为了保持稳定的性能,通常需要每月、甚至每周清洗刻蚀工艺腔室,并更换被等离子体工艺腐蚀的部件。2019 年 4 月,泛林集团与客户携手达成了一项宏伟目标,实现设备在无需维护清洗的情况下连续运行 365 天,创下里程碑式纪录。泛林集团自维护设备创生
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泛林集团 无需维护清洗 里程碑式纪录
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