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英国开设全球第二个5纳米以下电子束光刻中心

• 近日，英国南安普敦大学宣布成功开设了一个尖端电子束光刻（EBL）中心。这是日本以外全球首个分辨率达5纳米以下的中心，也是欧洲首个此类电子束光刻中心。该中心能够制造下一代半导体芯片。据南安普敦大学介绍，该电子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速电压直写电子束光刻系统。这是全球第二台200kV系统（JEOL JBX-8100 G3），第一台在日本。该系统可在200毫米晶圆上实现低于5纳米级精细结构的分辨率处理，适用于厚至10微米的光刻胶，侧壁几乎垂直，有助于开发电子和光子学领域研究芯片中的新结构。JEOL的另
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