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硅化物 文章 进入硅化物技术社区

FSI国际宣布在硅化物形成步骤中的金属剥离技术取得突破

  •   FSI 国际有限公司宣布已成功地采用FSI ViPR™技术在自对准多晶硅化物形成后去除了未反应的金属薄膜。通过实现这一新的工艺,IC制造商可以在钴、镍和镍铂硅化物集成过程中,大幅度减少化学品的使用和降低对资金的要求。新订购的FSI ZETA® Spray Cleaning System喷雾式清洗系统中已经采用了FSI ViPR™技术,并将用于升级最近已经在生产现场安装的系统。   镍铂硅化物最早应用于65nm逻辑器件,因为它的阻抗更低,从而可实现器件性能的大幅改善。但
  • 关键字: FSI  硅化物  逻辑器件  嵌入式  
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硅化物介绍

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