首页  资讯  商机   下载  拆解   高校  招聘   杂志  会展  EETV  百科   问答  电路图  工程师手册   Datasheet  100例   活动中心  E周刊阅读   样片申请
EEPW首页 >> 主题列表 >> memsstar

memsstar 文章

memsstar谈MEMS刻蚀与沉积工艺的挑战

  •   鲁 冰 (《电子产品世界》记者)  不久前,MEMS蚀刻和表面涂层方面的领先企业memsstar向《电子产品世界》介绍了MEMS与传统CMOS刻蚀与沉积工艺的关系,对中国本土MEMS制造工厂和实验室的建议等。  1 MEMS比CMOS的复杂之处  MEMS与CMOS的根本区别在于:MEMS是带活动部件的三维器件,CMOS是二维器件。因此,虽然许多刻蚀和沉积工艺相似,但某些工艺是MEMS独有的,例如失效机理。举个例子,由于CMOS器件没有活动部件,因此不需要释放工艺。正因为如此,当活动部件“粘”在表面上
  • 关键字: 202006  MEMS  CMOS  memsstar  

memsstar的MEMS征程

  •   MEMS是多学科交叉融合的前沿技术,在后摩尔时代,MEMS正在凭借其层出不穷的新应用而大放异彩。MEMS以其微型化的优势,在消费电子、医疗电子和汽车电子等方面有着广阔的应用前景。   
  • 关键字: memsstar  MEMS  
共2条 1/1 1

memsstar介绍

您好,目前还没有人创建词条memsstar!
欢迎您创建该词条,阐述对memsstar的理解,并与今后在此搜索memsstar的朋友们分享。    创建词条

热门主题

树莓派    linux   
关于我们 - 广告服务 - 企业会员服务 - 网站地图 - 联系我们 - 征稿 - 友情链接 - 手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
备案 京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案:1101082052    京公网安备11010802012473