- 液化空气集团电子气业务线近日宣布，其应用于半导体制造的前驱体ZyALD已获得中国专利局授予的相关专利，从而使中国成为了继韩国、新加坡、中国台湾以及部分欧洲国家之后又一获得该项专利的国家。此外，相关专利的申请工作在其他国家及地区也预期顺利。ZyALD及其它类似分子应用于高介电常数沉积镀膜，该工艺目前已在全球范围内获得11项专利，另有13项专利正在申请中。
ZyALD是上述已获专利的系列分子中一种重要的锆前驱体(功能分子)。该分子能够在半导体制造工艺中，实现高温条
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液化空气 ZyALD ALD
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