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应用材料公司解决2D尺寸继续微缩的重大技术瓶颈

  • 应用材料公司近日宣布推出一项新技术,突破了晶圆代工-随逻辑节点2D尺寸继续微缩的关键瓶颈。应用材料公司最新的选择性钨工艺技术为芯片制造商提供了一种构建晶体管和其它金属导线连接的新方法,这种连接作为芯片的第一级布线,起着至关重要的作用。创新型选择性沉积降低了导线电阻,从而提升晶体管性能并降低功耗。有了这项技术,晶体管及其导线的节点可以继续微缩到5纳米、3纳米及以下,从而实现芯片功率、性能和面积/成本(PPAC)的同步优化。应用材料公司创新的选择性钨工艺技术消除了在先进晶圆代工-随逻辑节点微缩而阻碍晶体管功率
  • 关键字: PPAC    
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