近日，京东方（BOE）在其官方公众号发表文章，称凭借多年技术积累，目前已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破，攻克了铜（Cu）易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题，在业内率先实现了铜互连堆叠结构的量产，及高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成。

京东方表示，其新型氧化物半导体显示技术的创新，主要体现在材料及器件突破、独创理论突破、显示性能提升、拥有业界领先的功能集成这四方面。

据京东方介绍，通过设计独有的铜互连叠层布线氧化物新型堆叠结构，攻克了业界难题，掌握了自主高量产性的Cu缓冲层技术，并率先实现铜互连堆叠结构的氧化物量产；提出的氮氧平衡理论和界面修复理论，实现了氧化物特性和良率可控，使亮点不良发生率大幅降低；提出的栅极驱动电路集成模型，首次使用直流去噪模式，并引入整体复位信号，解决了GOA末行失效问题，同时在量产产品中首次提出并应用TFT散热设计，GOA寿命提升一倍以上；设计高透叠层模型和高透动态补偿柱状隔垫物方案、开发源极驱动信号多路转化技术（MUX）、氧化物触控集成（Oxide Full In Cell）技术和智能同步驱动（Smart Sync Driving）充电补偿方案，实现了高刷新率、高分辨率氧化物显示技术集成。

京东方表示，已实现了110英寸8K 120Hz氧化物GOA量产，并会推出低功耗、超窄边的500Hz+电竞显示屏。后者是27英寸氧化物FHD显示屏，拥有全球最高的刷新率，使用了高迁移率Oxide背板，响应时间为1ms，真8bit输出。

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