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真空机组在PECVD中的具体应用

发布人:pronotek 时间:2018-10-30 来源:工程师 发布文章

普诺克真空机组为PECVD设备配套真空泵,真空机组产品在光伏行业内大量应用。

 真空机组

PECVD,等离子体增强化学的气相沉积法。也是化学气相沉积的一种镀膜设备。PECVD广泛应用也半导体、LED、光伏等行业,用于在晶体表面形成薄膜的设备。应用在光伏行业的PECVD分为2种,一种是管式太阳能PECVD;一种是板式太阳能PECVD。

 

PECVD设备主要有5大部分组成:晶片装载区、炉体、特气柜、真空系统、控制系统。

 

在炉体内有石英管,石英管是镀膜的作业区域,耐高温和防反应。

 

每个石英管配置一组泵,真空机组是有上泵和下泵组成,真空系统根据阀门的开度来调节管内的真空度。一般PECVD工作时,管内的真空度要维持在10Pa~100Pa左右。

 

罗茨水环真空机组选用水环泵作为前级泵比其它真空泵更为有利,它克服了单台水环泵使用时极限压力差(机组的极限压力比水环泵有很大的提高),在一定压力下抽气速率低的缺点,同时保留了罗茨泵能迅速工作,有较大抽气速率的优点。尤其能够适应抽除大量的可凝性蒸汽,特别是当气镇油封机械真空泵排除可凝性蒸汽能力不够,或使用的溶剂能使泵油恶化而影响性能,或者是真空系统不允许油污染的时候更为明显。当配有防爆电机及电器时并遵守相应的安全规则下,还可抽除易燃易爆的气体。


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