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台积电重新利用旧晶圆厂，将 EUV 薄膜生产引入内部

• 台积电正在重新利用其位于新竹科学园的旧的、已折旧的 8 英寸 Fab 3 来生产极紫外薄膜，并将这种生产引入内部。EUV 薄膜是一种薄而高度透明的薄膜，拉伸在光掩模上方，以防止颗粒在 EUV 暴露期间接触掩模。它旨在承受强烈的 EUV 辐射和热应力，同时最大限度地减少光吸收和波前失真。生产薄膜是一种缩短更换周期的方法，并对组件施加更多控制，在 EUV 环境中，该组件必须保护光掩模免受颗粒影响，同时应对极端暴露条件。与旧的 DUV 工艺不同，EUV 系统使用 400 W 光源和局部加热运行，掩模温度接近 1
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