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片内相位测量工具模拟光刻机

关键字：片内相位测量模拟光刻机采用特殊照明方式的高/超高数值孔径（NA）的193nm光刻机和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增，而业界又迫切需要
关键字：相位测量模拟光刻机

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光刻机介绍

国外半导体设备我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台, 金丝球焊机,电子束蒸发台。溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸精密划片机，300毫米清洗机,。如您感兴趣请登录以下网站或Email: 网址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看详细 ]

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