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罗门哈斯 文章 进入罗门哈斯技术社区

罗门哈斯公司增加在台湾的投资 扩建亚太区制造厂

  •   罗门哈斯电子材料公司旗下研磨技术(CMP Technologies)事业部宣布,增加对其位于台湾新竹的亚太区研磨垫制造工厂的投资。这笔投资旨在加快公司的产能扩张速度,以满足亚洲半导体制造客户日益增长的对研磨垫的需求。这座位于新竹的工厂自2007年3月起即具备全面运行能力并投产,同时也已通过本地区各大逻辑和存储半导体客户的认证。   在设计上,该工厂可以进行多个阶段的扩容,以满足亚洲地区未来对200毫米和300毫米研磨垫的需求。自2007年3月起,该厂研磨垫业务即已具备全面运行能力。2009年初,全面
  • 关键字: 罗门哈斯  研磨技术  半导体  存储  

罗门哈斯开设亚洲技术中心,为尖端CMP应用提供支持

  •   面向全球半导体行业的化学机械研磨(CMP)技术领导和创新者罗门哈斯电子材料公司(Rohm and Haas Electronic Materials)(NYSE:ROH)研磨技术(CMP Technologies)事业部今天宣布在台湾新竹开设新的亚洲技术中心(Asia Technical Center,简称ATC)。该中心将有助于研磨技术事业部(CMP Technologies)更加密切地与亚洲地区的客户合作,帮助其优化先进的化学机械研磨(CMP)工艺和耗材套件,同时还为整个亚太地区提供工程和技术支
  • 关键字: 半导体  罗门哈斯  CMP  

罗门哈斯获颁SSMC 2007年最佳供应商奖

  •   全球半导体产业之化学机械研磨技术领先与创新厂商--罗门哈斯电子材料公司今天宣布其CMP Technologies事业处 获颁Systems on Silicon Manufacturing Company’s (SSMC’s) 2007年年度最佳供应商.这也是罗门哈斯在4年内年第二次从SSMC获得此项殊荣。这个奖项是类似罗门哈斯今年三月所获得的日立半导体新加坡卓越供应商奖。   “SSMC是建立于与供应商建立持久的伙伴关系哲学基础上,罗门哈斯长期以来不断提供我们最
  • 关键字: 罗门哈斯  SSMC  半导体  电子材料  

罗门哈斯凭借减少耗浆量的槽沟新设计使钨 CMP 耗材成本降低20%

  •   菲尼克斯2008年4月23日 — 面向全球半导体行业的化学机械抛光 (CMP) 技术领导和创新的罗门哈斯电子材料公司 (Rohm and Haas Electronic Materials) (NYSE:ROH) CMP Technologies 事业部今天推出了一项面向其 IC1000™ AT 和 VisionPad™ CMP 抛光垫的革命性槽沟设计。此项新型设计能够降低高达35%的耗浆量,这相当于将钨 CMP 的总耗材成本降低约20%。   这项申请之中的专利
  • 关键字: 罗门哈斯  

罗门哈斯公司收购Gracel Display

  •   美国费城及韩国首尔 2008年4月9日——罗门哈斯(NYSE:ROH)宣布正式收购Gracel Display, Inc.,一个世界领先的有机发光二极管(OLED)材料研发和制造商。通过此笔价值约为4000万美元的交易,罗门哈斯获得了韩国Gracel公司的多数股权。   收购Gracel及其在有机发光二极管(OLED)材料方面的投资组合拓展了罗门哈斯日益增长的显示技术业务。罗门哈斯显示化学部门的一部分可生产TFT(薄膜晶体管)光刻胶以及相关材料;在2007年6月获得柯达(Ea
  • 关键字: OLED  罗门哈斯  Gracel Display  

罗门哈斯推出下一代VISIONPAD™ 浅沟槽隔离工艺研磨垫

  •   罗门哈斯公司电子材料CMP技术事业部近日宣布其先进的 VisionPad 平台家族又增添一款新品——VisionPad™ 5000 CMP研磨垫。这款研磨垫可用于65 nm以下存储及逻辑芯片的量产,能大大降低浅沟槽隔离工艺(STI)及层间绝缘(ILD)应用的缺陷率。   VisionPad 5000采用了CMP技术事业部专门设计的聚合材料,适用于各种市售研磨液,能显著降低研磨缺陷率。此外,孔隙尺寸及密度的优化设计也是此款新品的主要设计亮点。罗门哈斯技术人员经过大量
  • 关键字: 罗门哈斯 VisionPad 电子材料   

罗门哈斯CMP科技亚太制造和技术中心动工

  • 罗门哈斯电子材料CMP科技日前为其位于新竹科技园区和竹南科技园区的“亚太制造和技术中心”举行破土动工仪式。该中心预期在2007年第一季度之前投入商业运转。 罗门哈斯电子材料大多数业务都在亚洲,台湾是其下一代IC1000 TM研磨垫的生产基地和高级应用实验室、销售以及客户支持中心。该中心占地6英亩,耗资5000万美元用于建设4500平米生产下一代CMP产品的工厂和2000平米的技术中心以及3000平米的办公场所。应用实验室包括用于研磨垫和浆料分析的标准设备和一个300至500平方米用于CMP研磨、
  • 关键字: CMP  科技亚太  罗门哈斯  
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