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硅通孔 文章 进入硅通孔技术社区

中微推出硅通孔刻蚀设备Primo TSV200E

  • 中微半导体设备有限公司(以下简称“中微”)推出了8英寸硅通孔(TSV)刻蚀设备Primo TSV200E(TM) -- 该设备结构紧凑且具有极高的生产率,可应用于8英寸晶圆微电子器件、微机电系统、微电光器件等的封装。继中微第一代和第二代甚高频去耦合等离子刻蚀设备Primo D-RIE(TM) 和Primo AD-RIE(TM)之后,中微的这一TSV刻蚀设备将被用于生产芯片的3D封装、CMOS图像感测器、发光二极管、微机电系统等。中微的8英寸硅通孔刻蚀设备Primo TSV200E(TM)已经进入昆山西钛微
  • 关键字: 中微  硅通孔  Primo TSV200E  

ECI Technology的化学检测系统成功在欧洲知名半导体研究中心装载

  •         全球领先的湿法化学度量技术供应商ECI Technology近日宣布一家欧洲知名的半导体研究中心成功装载了On-Line Quali-Line QLC-7500 Chemical Monitoring System(CMS)。ECI Technology将在近期举行的SEMICON China中参展,展位号是4722。         QLC-750
  • 关键字: ECI  CMS  硅通孔  
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硅通孔介绍

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