- 近日，应用材料公司宣布为200mm CMP（化学机械研磨）系统推出创新的Applied DuraPad CMP（化学机械研磨）抛光垫技术 。DuraPad的使用寿命比现有的研磨垫至少延长了30%，有效地增加了机台的有效使用时间，替客户节约了可观的拥有成本。在DuraPad制造过程中采用先进的six-sigma 制造技术保证了研磨垫不同批次之间性能的一致性，从而确保获得良好的CMP研磨效果。 应用材料公司全球服务部总经理兼资深副总裁Manfred
- 关键字：
工业控制 化学机械 研磨抛光垫技术 应用材料公司 工业控制
研磨抛光垫技术介绍
您好，目前还没有人创建词条研磨抛光垫技术!
欢迎您创建该词条，阐述对研磨抛光垫技术的理解，并与今后在此搜索研磨抛光垫技术的朋友们分享。
创建词条
关于我们 -
广告服务 -
企业会员服务 -
网站地图 -
联系我们 -
征稿 -
友情链接 -
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
