- 目前，我国洁净厂房的整体发展速度远远低于欧美国家，特别是设计、建造技术还存在很大的差距。电子行业洁净厂房的建设虽然已经发展到了一个全新的时代，但目前仍不得不面临技术水平要求相对粗放，设计、施工周期相对紧迫的现状。这使得精品工程少，能够做精品工程的企业更少，许多企业都在追求利益最大化，工程质量参差不齐。因此，越是规范的企业所承受的压力越大。
在电子行业，规范、精细化的要求将渗透到企业的每一个环节，同时对洁净厂房的建设要求也会越来越高。净化企业很难仅仅依靠价格优势、施工速度占领市场，而是要靠新技术和
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电子信息 掩模版 TFT-LCD
- 作为转移微细图形的工具，掩模版是TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)制造过程中必不可少的材料，对TFT产业至关重要。由于当前掩模版市场主要被国外企业所垄断，我国要发展TFT产业，掩模版的国产化显得尤为重要。
掩模版是产业链重要环节
和集成电路的生产一样，TFT-LCD在制造过程中也需要利用光刻工艺把沉积在基板上的薄膜(金属、介质或透明导电玻璃等)制作成一定的图形，这种图形转移的母版就是掩模版。对于一种产品而言，其生产过程中有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩模版。
TFT-LCD与
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Micronic TFT-LCD 掩模版
- 发展TFT-LCD掩模版产品，不仅能带动多项相关产业的发展，形成较为完整的产业链，而且可打破国外垄断局面，提高国产化配套能力，全面提升整机产品的品质和性能，大幅度降低整机制造成本，对推进我国液晶显示产业技术发展及终端应用产品的技术进步具有积极意义。
中国企业已掌握核心技术
TFT-LCD用掩模版也称光罩或MASK，是TFT-LCD制造过程中的图形转移工具或母版，它用于下游面板行业批量复制生产，主要应用于TFT-LCD黄光段阵列及彩色滤光片的曝光工艺。
清溢光电通过自主技术创新和体制创
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TFT-LCD MASK 掩模版
掩模版介绍
photomask
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
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