- 微影设备业者ASML第一季已完成136台极紫外光（EUV）曝光机出货，累计超过7,000万片晶圆完成EUV曝光。随着EUV微影技术推进，预期2025年之后新一代EUV曝光机每小时曝光产量可达220片以上，以因应客户端先进制程推进至埃米（Angstrom）世代对先进微影技术的强劲需求。虽然2023年半导体市况能见度低且不确定性高，但包括台积电、英特尔、三星、SK海力士、美光等全球前五大半导体厂仍积极投资EUV产能，加上制程推进会带动光罩层数增加，法人乐观看好家登、帆宣、公准、意德士（等EUV概念股明年营运将
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微影技术 ASML EUV
- 据外国媒体报道，荷兰微影设备厂ASML宣布，三星公司已同意向ASML投资5.03亿欧元(约合6.29亿美元)，获得该公司3%股权。此外，三星承诺在未来5年将向ASML公司投资2.76亿欧元(约合3.45亿美元)，支持ASML研发下一代微影技术。
此前，台积电和英特尔公司已宣布分别以8.38亿欧元和33亿欧元收购ASML公司5%和15%股权。同时，台积电公司承诺在未来5年向ASML投入2.76亿欧元，用于ASML的研发计划。
ASML公司之前曾邀英特尔、台积电和三星等公司加入由其
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三星 微影技术
- 目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现，而身为深紫外光 (EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出，EUV技术最快于2014年可望进入量产，而应用存储器制程又将早于逻辑制程，他也指出，无光罩多重电子束恐怕来不及进入量产。
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微影技术 EUV
- 台湾积体电路制造股份有限公司(台积电)10日公布2009年6月营收报告，就非合并财务报表方面，营收约为新台币257亿7800万元，较2009年5月增加了5.3%，较去年同期减少了9.6%。累计2009年1至6月营收约为新台币1095亿5600万元，较去年同期减少了35.9%。
就合并财务报表方面，2009年6月营收约为新台币265亿1500万元，较2009年5月增加了5.0%，较去年同期减少了10.0%;累计2009年1至6月营收约为新台币1137亿1200万元，较去年同期减少了35.3%。
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台积电 22纳米 微影技术
- 为积极朝向22纳米制程技术前进，台积电宣布与法国半导体研究机构CEA-Leti签订合作协议，将参与由CEA-Leti主持的IMAGINE产业研究计画，就半导体制造中的无光罩微影技术进行合作，这项计画为期3年。日前曾传出，由于经济前景不明，部分设备商延后22纳米制程技术研发，台积电此举则希望更积极主动推动22纳米无光罩微影技术。
这次台积电参与的CEA-Leti IMAGINE研究计画为期3年，所有参与这项计画的公司都可取得无光罩微影架构供IC制造使用，也可以藉由设备商Mapper所提供的技术提高
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台积电 22纳米 微影技术
微影技术介绍
微影技术(Lithography)是制造晶体管及它们之间的连结的关键技术，在半导体制程上较狭义之定义，一般是指以光子束经由图罩(Mask, Reticle)对晶圆(Wafer)上之阻剂照射；以电子束、离子束经由图罩、图规(Stencil)对阻剂照射；或不经由图罩、图规，对阻剂直接照射（直写），使阻剂产生极性变化、主链断链、主链交连等化学作用，经显影后将图罩、图规或直写之特定图案转移至晶圆。 [
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