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大日本印刷与Molecular共同开发低成本纳米压印技术

• 　　大日本印刷与美国Molecular Imprints就在推进22nm级以后纳米压印技术实用化进程中建立战略性合作关系达成了一致。 　　纳米压印技术与ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技术相比，可削减设备成本。但因其是用模板压模后转印电路图形，所以量产时需要定期更换模板。因此，该公司希望成本能比模板进一步降低。 　　为了解决该课题，此次的合作中两公司将共同开发在硅晶圆上转印图形用纳米压印模板复制技术。两公司称，将应用现有的光掩模制造技术，确立可高效复制及制造模板的技术。 　　此前，大日本印刷在纳米压
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