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半导体光刻机 文章 进入半导体光刻机技术社区

佳能发售半导体光刻机解决方案平台“Lithography Plus”

  • 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus1”服务(以下简称“Lithography Plus”),该系统汇聚佳能在半导体制造领域超过50年的技术积淀,以包括曝光工艺在内的海量半导体制造数据为支持,在提升设备维护运转率的同时,能够实现半导体制造工艺的优化。 佳能陆续推出了具有高处理性能的KrF光刻机和支持多种设备的i线光刻机等一系列产品,多年来一直积极地为购置佳能光刻机的客户提供技术支持。“Lithography Plus”通过综合运用技术经验与数据积累,在实
  • 关键字: 佳能  半导体光刻机  Lithography Plus  
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半导体光刻机介绍

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