- 近日，应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蚀设备，它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要的纳米制造技术系统。Tetra III通过控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以内，同时把临界尺寸损失减小到10nm以下，使客户可以在最重要的器件层交替使用相移掩膜和强有力的光学临近修正技术。该系统为基于铬、石英、氮氧硅钼等多种新材料的下一代光刻技术应用提供无差错、高产能的刻蚀工艺。
应用材料公司资深副总裁，刻蚀、清洁、前道
- 关键字：
45纳米 光掩膜刻蚀 应用材料公司
光掩膜刻蚀介绍
您好，目前还没有人创建词条光掩膜刻蚀!
欢迎您创建该词条，阐述对光掩膜刻蚀的理解，并与今后在此搜索光掩膜刻蚀的朋友们分享。
创建词条
关于我们 -
广告服务 -
企业会员服务 -
网站地图 -
联系我们 -
征稿 -
友情链接 -
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
