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光刻设计 文章 进入光刻设计技术社区

KLA-TENCOR推出面向光刻设计检测方案

  •       KLA-Tencor正式发布了业界第一套用于 post-RET(分辨率增强技术)掩膜版设计版面 (reticle design layout)检测的完整芯片光刻制程工艺窗口(lithography process window)(允许误差空间)检测系统。DesignScan 能使芯片生产商减少掩膜版的设计修正次数,获得高成品率的设计,以实现更好的参数化设计性能和快速的上市时间
  • 关键字: KLA-TENCOR  方案  光刻设计  检测  其他IC  制程  
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光刻设计介绍

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