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光刻设备 文章 进入光刻设备技术社区

ASML:数值孔径0.75超高NA EUV光刻设备2030年登场

  • 据日本媒体报导,光刻机设备龙头阿斯麦(ASML)执行副总裁Christophe Fouquet近日在比利时imec年度盛会ITF World 2023表示,半导体产业需要2030年开发数值孔径0.75的超高NA EUV光刻技术,满足半导体发展。Christophe Fouquet表示,自2010年以来EUV技术越来越成熟,半导体制程微缩至2020年前后三年,以超过50%幅度前进,不过速度可能会在2030年放缓。故ASML计划年底前发表首台商用High-NA(NA=0.55)EUV微影曝光设备(原型制作),
  • 关键字: ASML  NA  EUV  光刻设备  

传俄罗斯2028年量产7nm光刻设备

  • 据外媒Tomshardware报导,一家俄罗斯研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备,预计该设备可以被用于7纳米制程芯片的生产上。整个计划预计在2028年完成,而且一旦完成之后,其设备可能会比ASML的Twinscan NXT:2000i效能更高。值得一提的是,ASML开发Twinscan NXT:2000i的时间超过了10年。报导表示,俄罗斯政府推出了一项国家计划,到2030年开发出自己的28纳米制程技术,并尽可能利用外国芯片进行逆向工程取得技术,同时也要培养本土人才从事国产芯片的生产工作。根
  • 关键字: 7nm  光刻设备  

辽沈地区半导体装备产业强势崛起

  •   半导体装备制造产业是国民经济的战略性和先导性产业,10余年间,在国家增强自主创新能力和振兴东北老工业基地等战略方针的引导下,辽宁半导体装备制造产业以沈阳为中心实现了从无到有、从小到大、由弱到强的历史性转变:建成了国内首个IC装备控制软件平台和IC装备专业孵化器,攻克了多个制约我国半导体设备的生产工艺和关键技术,创造了300余项科研成果,成功研制出6-12英寸等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、匀胶显影、单片湿法刻蚀和凸点封装喷涂胶等系列整机设备以及300mm IC生产线自动物料搬运系统、直接驱动真
  • 关键字: 半导体  光刻设备  

芯硕精密机械落户天津开发区

  •   天津芯硕精密机械有限公司落户签字仪式暨老厂房改造开工仪式在天津开发区举行。天津开发区(南港工业区)管委会党组书记、管委会主任何树山,工信部电子信息司副司长刁石京,芯硕半导体有限责任公司董事长刘钧,滨海新区副区长郭景平,天津开发区(南港工业区)管委会副主任郎东等领导出席仪式。何树山代表开发区管委会,对天津芯硕精密机械有限公司落户开发区,对开发区旧厂房升级改造工程启动表示热烈祝贺。
  • 关键字: 芯硕  光刻设备  

挺进20nm:台积电2011年将开始在Fab12工厂装用ASML产EUV光刻设备

  •   据台积电公司负责技术研发的副总裁蒋尚义表示,2011年台积电从荷兰ASML公司订购的极紫外(EUV,波长13.5nm)光刻设备将运抵厂内,这批订 购的设备将为台积电公司2013年将公司制程能力升级到20nm级别铺平道路.蒋尚义是在本月24日举办的台积电技术论坛会议上说出这番话的,他同时还指 出EUV光刻技术要想投入商用还需要更加成熟,另外他还透露这批订购的EUV光刻工具每小时能刻制100片晶圆。   台积电首批EUV光刻设备将被安装在300mm Fab12工厂内,而台积电未来的研发重点则将放在2
  • 关键字: 台积电  20nm  光刻设备  

32nm制程用沉浸光刻设备客户需求量剧增:ASML公司召回先前遭辞退员工

  •   据荷兰ASML公司高管透露,由于最近半导体厂商对沉浸式光刻设备的需求量剧增,著名光刻厂商ASML公司最近重新召回了先前辞退的700名员工,同时还 招聘了数百名新员工,这名高管表示ASML公司还需要再增加300名员工,同时还预计公司将可保证各个客户对光刻设备的订单需求。   由于消费电子设备以及PC市场对高密度芯片的需求在不断上升,ASML公司的高管表示他预计他的客户们在今明两年不会碰上所生产的芯片产品供过于求的情况。   据ASML公司今年一季度公布的财报数据显示,这家光刻厂商今年一季度末的N
  • 关键字: ASML  32nm  光刻设备  

台内存芯片厂商制程转换计划传因设备交货期拖延而更变

  •   据内存业者透露,由于沉浸式光刻设备的交货日程有所延长,因此南亚,华亚(南亚与镁光的合资厂)两家内存芯片制造商今年转向50nm级别制程节点的计划有 可能会后延.而另一家台系内存芯片厂商瑞晶(力晶与尔必达的合资厂)计划于今年二月份开始的光刻设备导入计划也有可能会后延两个月左右的时间。   而南亚和华亚则澄清称其购买的沉浸式光刻设备将以分期到货的形式进场,并宣称此前进场的设备已经按原计划完成了进货。   按南亚和华亚的计划,他们将于年底前完成向镁光50nm制程技术的转换工作,并将于下半年开始试产40nm
  • 关键字: 华亚  光刻设备  内存芯片  

EUV蓄势待发 Carl Zeiss向ASML出货EUV光学系统

  •   德国Carl Zeiss SMT AG已向半导体设备商ASML出货首台EUV光学系统。该公司已使EUV光学系统达到了生产要求。   光学系统是EUV设备的核心模块,首台EUV设备预计将在2010年出货。几周前,美国公司Cymer完成了EUV光源的开发,EUV光源是EUV光刻设备另一个关键模块。该技术将使芯片制造商进一步缩小芯片的特征尺寸,提高生产效率。   据Carl Zeiss 介绍,目前出货的光学系统已经研发了约15年。
  • 关键字: ASML  EUV  光刻设备  
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光刻设备介绍

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