- EVG在SEMICON China 2011展会期间推出EVG620HBL光刻系统。 这一全新的EVG620HBL全自动光刻系统以经过实战作业验证的EVG光刻机平台为基础，旨在优化高亮度发光二极管(HB - LED)、复合半导体和动力电子设备的生产制造。据悉，EVG620HBL增加了一个高强度紫外线光源和五个向盒装卸台，可以不间断地制造设备。
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EVG 光刻系统
- 世界领先的先进半导体与封装、微机电系统、硅绝缘体(SOI)和新兴纳米技术市场晶圆键合与光刻设备应供应商EVG宣布，其产品组合中再添新成员。 这一全新的EVG620HBL全自动光刻系统以经过实战作业验证的EVG光刻机平台为基础，旨在优化高亮度发光二极管(HB - LED)、复合半导体和动力电子设备的生产制造。据悉，EVG620HBL增加了一个高强度紫外线光源和五个向盒装卸台，可以不间断地制造设备。
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EVG 光刻系统
- Maskless Lithography公司今天首次公开推出全新的可提高印制电路板(PCB) 生产门槛的直写数字成像技术。这种MLI-2027直写光刻系统首次在业内同时实现高精度、高生产效率和高成品率，並采用标准的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蚀剂。Maskless公司今天还宣布Sanmina-SCI公司通过在洛杉矶的工厂中对Maskless MLI-2027设备进行测试、验证和认证后，购买了该公司的首台产品。
“这台设备的售出标志着我们五年的研发工
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Maskless-Lithography PCB 光刻系统 MLI-2027
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