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二次成像光刻 文章 进入二次成像光刻技术社区

KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机

  •   KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案,并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战,尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。   KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出:“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加,电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这
  • 关键字: KLA-Tencor  光刻机  二次成像光刻  
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二次成像光刻介绍

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