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亚微米CMOS电路中VDD-VSSESD保护结构设计(二)

  • 3 仿真分析及具体设计结果3.1 仿真分析在亚微米的ESD结构的设计中,一种常见的具体的ESD瞬态检测电压如图2 VDD-VSS间的电压钳位结构。其原理如下:主要利用结构中的RC延迟作用,一般T=RC被设计为100ns-1000ns之间,而
  • 关键字: VDD-VSSESD  CMOS  亚微米  电路    

亚微米CMOS电路中VDD-VSSESD保护结构设计

  • 1 引言ESD(Electric Static Discharge)保护结构的有效设计是CMOS集成电路可靠性设计的重要任务之一,其ESD结构与工艺技术、特征尺寸密切相关,随着IC工艺技术的进一步发展,特征尺寸越来越小,管子的栅氧层厚度越来越
  • 关键字: VDD-VSSESD  CMOS  亚微米  电路    

超声波电子导盲电路

  • 电子产品世界,为电子工程师提供全面的电子产品信息和行业解决方案,是电子工程师的技术中心和交流中心,是电子产品的市场中心,EEPW 20年的品牌历史,是电子工程师的网络家园
  • 关键字: RC振荡器  VDD  GND  

锂离子电池智能充电器硬件的设计(图)

AB类功率放大器驱动电路的研究与设计

  •   1 AB类功放驱动电路设计目标   在实用电路中,往往要求放大电路的末级(即输出级)输出一定的功率,以驱动负载。能够向负载提供足够信号功率的放大电路称为功率放大电路,简称功放。经典功率放大器有4种类型:A类,AB类,B类和C类,他们的主要差别在于偏置的情况不同。理想的4类经典放大器的最大效率的理论值与导通角的函数关系如图1所示。   A类功率放
  • 关键字: AB类功放驱动电路  NMOS  VDD  隔直电容  
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