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KLA-Tencor推出业内首套45纳米光掩膜检测系统TeraScanHR

  •   KLA-Tencor宣布推出 TeraScanHR 系统 – 业内首套新一代 45 纳米生产级光掩膜检测系统。45 纳米及以上节点生产中缺陷尺寸小,并采用极为复杂的 OPC*,这要求检测设备具有极高的分辨率,TeraScanHR 满足了这一要求,同时大大改进了生产效率,客户不仅可以获得 45 纳米关键层生产的最高灵敏度,而且还可降低非关键层和芯片生产的单位检测成本。   “我们新的 TeraScanHR 系统为光掩膜制造商带来了非凡的新技术和经济效益,可有效降低多代光掩膜生产的成本,其中包括异常复
  • 关键字: KLA-Tencor  TeraScanHR  测量  测试  光掩膜检测系统  
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