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德国建立32nm光刻掩膜研发项目

  •   先进掩膜技术中心(AMTC)、半导体设备供货商Vistec和德国国家物理技术研究院(PTB)将共同完成研发下一代芯片生产技术和量测流程的开发项目。   德国教育部对此代号为“CDuR32 (32nm掩膜光刻技术的核心演习和使用) ”的研发项目提供了部分资助。该项目的总预算资金为16.7百万欧元(约24.3百万),其中德国政府资助了7.9百万欧元。   该项目预计为期2.5年,旨在研发掩膜技术以用于今后其Dresden晶圆厂32nm存储芯片和22nm微处理器的生产。AMTC由
  • 关键字: 掩膜  AMTC  半导体  PTB  
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