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SK海力士引领High-k/Metal Gate工艺变革

  • 由于传统微缩(scaling)技术系统的限制,DRAM的性能被要求不断提高,而HKMG(High-k/Metal Gate)则成为突破这一困局的解决方案。SK海力士通过采用该新技术,并将其应用于全新的1anm LPDDR5X DRAM, 即便在低功率设置下也实现了晶体管性能的显著提高。本文针对HKMG及其使用益处进行探讨。厚度挑战: 需要全新的解决方案组成DRAM的晶体管(Transistor)包括存储数据的单元晶体管(Cell Transistor)、恢复数据的核心晶体管(Core Tr
  • 关键字: SK海力士  High-k  Metal Gate  

C&K 在其超强耐用轻触开关系列中增加了一款长行程开关

  • 马萨诸塞州沃尔瑟姆 — 2022年 10 月 31 日 — 隶属 Littelfuse 旗下的 C&K 扩大了其微型 KSC 超强耐用 (TE) 轻触开关系列, 在 3.5mm 的版本上增加了一款可以提供更长行程的 5.2mm 高的开关。KSC4 TE 开关系列的使用寿命高达 1,000 万次, 简化了设计周期, 并在尺寸和力值方面优于竞争产品。KSC4 TE 开关的尺寸为 6mm x 6mm, 高度为 5.2mm, 提供三种操作力, 分别为 1.6、2.8 和 4N。其紧凑的尺寸和设计的灵活性给
  • 关键字: C&K  轻触开关  长行程开关  

Littelfuse完成对C&K Switches的并购

  • 致力于打造可持续发展、互联互通和更安全之世界的工业技术制造公司Littelfuse, Inc.宣布完成对C&K Switches (“C&K”)的并购。C&K 是高性能机电开关和互连解决方案的领先设计和制造商,在工业、交通运输、航空航天和数据通信等多个终端市场拥有广泛而活跃的全球业务。 Littelfuse电子业务部高级副总裁兼总经理 Deepak Nayar表示:“两家企业的合并显著扩展了双方的技术范围和生产能力,使得我们能够为广泛垂直终端市场的众多客户提供全
  • 关键字: Littelfuse  C&K Switches  并购  

基于深度学习的交通场景中行人检测方法*

  • 针对交通图像中行人分布的特点,提出一种交通场景下的行人检测方法。使用Faster R-CNN目标检测网络,首先在检测网络的卷积层前加入预处理,突出行人特征,减少训练耗时与系统开销。其次,由于交通场景图像中行人只占图像极小的部分,所以使用K-means聚类分析方法对行人的宽高比进行聚类分析,得到合适的宽高比。实验表明,改进后的方法在检测精度上有所提升,说明了该方法的有效性。
  • 关键字: 行人检测  交通场景  底层特征提取  K-means聚类  202103  

基于图像的目标区域分割算法研究

  • 通常在进行图像处理时,并不需要对整幅图像进行处理,往往我们感兴趣的部分只有图像中的某个区域。快速、有效地将目标区域分割出来,不仅能降低运行时间,而且能为后续处理工作打下基础。因此,本文将对目标区域分割算法进行研究,分别采用大津法(OTSU)、K-means聚类法、分水岭算法进行研究,通过实验对比发现,背景较单一时,大津法相对来说效果较好。
  • 关键字: 目标分割  大津法  K-means聚类法  分水岭算法  201902  

C&K推出可应用于汽车、工业和医疗领域的紧凑型双回路开关

  •   全球最值得信赖的高端机电开关品牌之一 ─ C&K宣布推出一款采用双回路技术的轻触开关, 作为其KSC系列轻触开关的重要新增。  这款新的KSC-DCT轻触开关支持SPDT NC-NO双回路功能, 可通过单路输入实现双路输出。封装在一个6.2 mm x 6.2 mm x 2.9 mm的小型PCB安装封装中, 封装中包含的硅胶70SH起动器将高度扩展到板面5.2 mm, 便于操作和通过预/后行程更容易集成。  该新开关的额定工作寿命为300,000次, 操作力要求为4.75N, 并提供0.85
  • 关键字: C&K,KSC-DCT  

C&K为工业和工程/越野车辆应用推出额外的密封按动开关系列

  •   全球最值得信赖的高品质机电开关品牌之一C&K,今天宣布推出新的PNP3系列密封按动开关,并提供额外的无盖选择。新开关适用于严苛应用,例如控制手柄、工程/ 越野车面板、工业仪器、电梯和输送机控制。  开关采用黑色PBT/PC热塑外壳制造,内置硅橡胶密封件,防护等级为IP68,非常适用于恶劣环境和强力冲洗应用,或任何可能暴露在灰尘、水或其他有害成分的地方。PNP系列开关经过振动(10至500Hz)测试和冲击(最高50g)测试,额定寿命高达1,000,000次。  其微动特性提供正向触觉反馈,而操作
  • 关键字: C&K  PNP3  

C&K推出新款全密封结构拨码开关

  •   全球最值得信赖的高品质机电开关品牌之一——C&K,今天宣布推出新款BDB DIP(双列直插或拨码)开关。这一传统的全剖面拨码开关,可为所有需要可靠拨码开关和凸柄(以方便操作)的应用,提供新一代有价格竞争力的解决方案。  对于采用单刀单掷(SPST)电路的开关,BDB拨码元件可以小型的PCB安装封装提供2至12个(11个除外)开关位置。每个开关的额定通断周期为每开关位置10,000次,且其触点容量为100mA/50VDC,接触电阻小于50mΩ。  BDB的额定工作温度范围为-40℃至+85℃,采
  • 关键字: C&K  拨码开关  

一种8K超高清电视系统设计方案 

  • 提出一种8 K超高清电视系统设计方案,详细阐述了系统原理、关键技术及产品方案。系统将8K视频帧分割为4个4 K视频帧进行处理及驱动8K屏、显示为1个8 K×4 K合成视频图像,实现8 K视频图像精确显示;能够进行4 K转8 K,实现8 K超级分辨率提升。该方案能够快速应用于8 K超高清电视等显示产品,具有很好的应用价值。
  • 关键字: 8 K  超高清电视  视频帧分割  合成视频  4 K转8 K  201806  

知名半导体厂商K&S用3D打印制造设备零部件

  •   Ultra Clean Holdings(UCT)是一家全球性的,具备垂直整合能力的外包制造服务供应商,能够提供从精密零部件制造到大型系统整合等的各种制造服务,并拥有东南亚最大的3D打印中心。近日,该公司宣布与全球半导体封装设备和工具业的领导者——库力索法(Kulicke & Soffa)合作,为其提供商业规模的3D打印服务,使K&S成为半导体设备市场首家应用3D打印技术的大规模定制能力的公司。  通过该合作,K&S已经为其Atserion i-MULTI楔焊机设计并制造了3D
  • 关键字: K&S  3D打印  

Spansion全新闪存设备不惧热力来袭

  •   并非所有的嵌入式应用都“生而平等”。在设计者们继续寻求途径改善用户体验和性能等方面的过程中,一个必须考虑的重要因素是嵌入式应用的运行环境。从北极地区冰冷刺骨的户外天线,到美国德州油气公司极度炙热的井下钻机,嵌入式应用所需支持的环境千差万别。嵌入式系统及其组件不仅须支持高温环境下功能运作,还必须保持其交流和直流参数以及其它规格要求。如果在极端温度范围内无法满足所有规格要求,必须做出得失权衡,就必须记录下这一信息,并在设计过程中进行共享。在汽车、消费、工业、游戏、网络或通信应用中,
  • 关键字: Spansion  NAND  FL1-K  

如何使用最大似然检测器方案优化MIMO接收器性能

  • 电子产品世界,为电子工程师提供全面的电子产品信息和行业解决方案,是电子工程师的技术中心和交流中心,是电子产品的市场中心,EEPW 20年的品牌历史,是电子工程师的网络家园
  • 关键字: MIMO  无线信道  K-best算法  MLD加速器  

DSP编程技巧之7---揭开编译器神秘面纱之预处理与诊断

  •     在编程软件例如CCS中编程时,代码分析工具可以方便我们对代码进行分析,例如我们把鼠标指向一个函数名的时候,所指的地方就能出来一个实时菜单,使得我们可以直接定位到函数的声明、被调用的位置或者某个宏定义等等,非常方便。这种功能是如何实现的呢?在编译器的前端是一个语义解析器,它负责把源程序中的token找出来,然后解析器parser(也有的地方叫分析器)就可以解析这些token,并产生树状表,供编程环境使用;此外解析器还可以完成一部分的语法错误检查功能。如果希望了解关于解析器的更详细的信息,可以参考编译
  • 关键字: DSP  编程  CCS  解析器  K&RC  

High-end A4监听音箱的制作

  • 一、设计及制作由于普通家庭室.内空间不够宽敞,要求音箱做得尽可能小巧一些,摆放在室内不致引人注意。然而,音箱的效率no与箱体容积VB和低频-3d8滚降点f3有以下关系:no=knmiddot;f33middot;VB上式中,kn是箱体系
  • 关键字: 制作  音箱  监听  A4  High-end  

High-end A4监听音箱的制作方法

  • 一、设计及制作由于普通家庭室.内空间不够宽敞,要求音箱做得尽可能小巧一些,摆放在室内不致引人注意。然而,音箱的效率no与箱体容积VB和低频-3d8滚降点f3有以下关系:no=knmiddot;f33middot;VB上式中,kn是箱体系
  • 关键字: 制作方法  音箱  监听  A4  High-end  
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high-k介绍

  High-K究竟是什么神奇的技术?这要从处理器的制造原料说起。   由于二氧化硅(SiO2)具有易制性 (Manufacturability),且能减少厚度以持续改善晶体管效能,因此过去40余年来,处理器厂商均采用二氧化硅做为制作闸极电介质的材料。   当英特尔导入65纳米制造工艺时,虽已全力将二氧化硅闸极电介质厚度降低至1.2纳米,相当于5层原子,但由于晶体管缩至原子大小的尺寸时,耗电和 [ 查看详细 ]

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