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euv设备 文章 进入euv设备技术社区

2010决胜年 ASML 主攻38纳米、EUV设备

  •   全球最大半导体微显影设备业者ASML表示,目前客户订单增加相当多,但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求,半导体业者仍持续微缩半导体制程,摩尔定律预料将持续延续。以目前ASML最先进的浸润式微显影机种来看,新一代的机种NXT 1950i 也已于2009年下半出货,未来将快速增加出货,同时深紫外光(EUV)也至少囊括5套客户订单,对ASML来说2010年将是极重要的一年。   ASML NXT技术平台资深经理Frank van de Mast指出,XT1900Hi的下一代机种NXT 1950i
  • 关键字: ASML  38纳米  EUV设备  
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