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原子级工艺实现纳米级图形结构的要求

  • 原子层刻蚀和沉积工艺利用自限性反应,提供原子级控制。泛林集团先进技术发展事业部公司副总裁潘阳博士 分享了他对这个话题的看法。图 1. 原子层工艺中的所有半周期反应是自限性反应。技术节点的每次进步都要求对制造工艺变化进行更严格的控制。最先进的工艺现在可以达到仅7 nm的fin宽度,比30个硅原子稍大一点。半导体制造已经跨越了从纳米级到原子级工艺的门槛。工程师现在必须关注结构的尺寸变化,仅相当于几个原子大小。由于多重图案模式等复杂集成增加了工艺数量,进一步限制了每个步骤允许的变化。3D N
  • 关键字: ALE  ALD  CER  EPE  SAC  CAR  

一种基于FPGA的自适应谱线增强系统的设计

  • 0引言在信号采集与处理中,常只关心具有较窄带宽和较强周期特征的信号,这时宽带噪声成为必须滤除...
  • 关键字: 信号处理  FPGA  ALE  自适应滤波  

基于ALE标准的嵌入式RFID中间件设计

  • 本文讲述了EPC系统,RFID中间件,并在这基础上设计了一个基于EPCglobal ALE标准的嵌入式RFID中间件,使标准的RFID中间件可以集成在阅读器上,实现一体化思想。
  • 关键字: 中间件  设计  RFID  嵌入式  ALE  标准  基于  
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